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EVG光刻机原理

2020-03-19 21:28:07  来源:http://www.ts-watches.com  编辑:admin

EVG光刻机原理

EVG®101--先进的光刻胶处理系统

主要应用:研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工

EVG101光刻胶处理系统在单腔设计中执行研发类型的工艺,与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101光刻胶处理机支持最/大300mm的晶圆,并可配置用于旋涂或喷涂以及显影应用。通过EVG先进的OmniSpray涂层技术,在互连技术的3D结构晶圆上获得了光致光刻胶或聚合物的保形层。这确保了珍贵的高粘度光刻胶或聚合物的材料消耗降低,同时提高了均匀性和光刻胶铺展选择。这**地节省了用户的成本。

EVG?620NT/EVG?6200NT掩模对准系统(自动化和半自动化)支持的晶圆尺寸:150mm/200mm。EVG光刻机原理

EVG®120--光刻胶自动化处理系统

EVG®120是用于当洁净室空间有限,需要生产一种紧凑的,节省成本光刻胶处理系统。

新型EVG120通用和全自动光刻胶处理工具能够处理各种形状和尺寸达200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超紧凑设计,并带有新开发的化学柜,可用于外部存储化学品,同时提供更高的通量能力,针对大批量客户需求进行了优化,并准备在大批量生产(HVM)中使用EVG120为用户提供了一套详尽的好处,这是其他任何工具所无法比拟的,并保证了最/高的质量各个应用领域的标准,拥有成本却非常低。

福建光刻机微流控应用我们可以根据您的需求提供进行优化的多用途系统。

光刻机软件支持

基于Windows的图形用户界面的设计,注重用户友好性,并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持,单个用户帐户设置和集成错误记录/报告和恢复,可以简化用户的日常操作。所有EVG系统都可以远程通信。因此,我们的服务包括通过安全连接,电话或电子邮件,对包括经过现场验证的,实时远程诊断和排除故障。EVG经验丰富的工艺工程师随时准备为您提供支持,这得益于我们分散的全球支持机构,包括三大洲的洁净室空间:欧洲(HQ),亚洲(日本)和

北美(美国).

EVG120特征:

晶圆尺寸可达200毫米

超紧凑设计,占用空间最小

最多2个涂布/显影室和10个加热/冷却板

用于旋涂和喷涂,显影,烘烤和冷却的多功能模块的多功能组合为许多应用领域提供了巨大的机会

化学柜,用于化学品的外部存储

EV集团专有的OmniSpray®超声波雾化技术提供了无与伦比的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层

CoverSpinTM旋转盖可降低光刻胶消耗并优化光刻胶涂层的均匀性

Megasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟

EVG100系列光刻胶处理系统为光刻胶涂层和显影建立了质量和灵活性方面的新的标准。

EVG101光刻胶处理系统的技术数据:

可用模块:旋涂/OmniSpray®/开发

分配选项:

各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000cP的粘度;

液体底漆/预湿/洗盘;

去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR);

恒压分配系统/注射器分配系统。

智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)

用于过程和机器控制的集成分析功能

并行任务/排队任务处理功能,提***率

设备和过程性能跟/踪功能:智能处理功能;事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪

晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米

EVG光刻**注未来市场趋势-例如光子学、光学3D传感-并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案。四川光刻机推荐产品

EVG610掩模对准系统,支持的晶圆尺寸:100mm/150mm/200mm。EVG光刻机原理

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